أخبار ar.wedoany.com، أعلنت شركة داو (Dow) مؤخرًا عن سلسلة من الاستثمارات المستهدفة، تخطط لاستثمار إجمالي يبلغ حوالي 100 مليون دولار أمريكي بحلول نهاية عام 2027، بهدف توسيع قدراتها العالمية في تصنيع وابتكار السيليكونات المتخصصة. ستوسع هذه الاستثمارات طاقة إنتاج السيليكونات المتخصصة في الولايات المتحدة والصين واليابان، مع التركيز على المواد المتقدمة من السيليكونات وقدرات المعالجة، لتلبية الطلب العالمي المتزايد في قطاعات التنقل والإلكترونيات والرعاية الصحية.
صرحت بريندي لانج (Brendy Lange)، رئيسة قسم المواد عالية الأداء والطلاءات، بأن هذه الاستثمارات تبرز التزام داو بتوسيع نطاق مواد السيليكونات المتخصصة، والاقتراب من العملاء، وتسريع الابتكار. من خلال توسيع قدرات التصنيع والابتكار في هذه المناطق الاستراتيجية، تستثمر داو لتلبية الطلب الاستهلاكي المتزايد، وتعزيز قدرات سلسلة التوريد العالمية، ومساعدة العملاء على تسريع تسويق الابتكارات.
تشمل الاستثمارات المحددة: توسيع إنتاج مطاط السيليكون السائل، بما في ذلك مشاريع في كارولتون بولاية كنتاكي وتشانغجياغانغ بالصين، ومن المتوقع أن تبدأ الإنتاج في عام 2027، لدعم التطبيقات عالية الأداء في قطاعات التنقل والإلكترونيات والرعاية الصحية؛ وتوسيع طاقة إنتاج مواد السيليكونات الهندسية لدعم التطبيقات الإلكترونية المتقدمة (بما في ذلك إلكترونيات الطاقة، وتغليف أشباه الموصلات، والحماية الحرارية والكهربائية)، ومن المقرر أن تبدأ الإنتاج هذا العام في سونغجيانغ بالصين وفوكوي باليابان، مع توسعات إضافية في أوبن بولاية ميشيغان وتشانغجياغانغ بالصين من المتوقع الانتهاء منها بحلول عام 2027، لتعزيز العمود الفقري للابتكار والتصنيع في مواد داو المتخصصة؛ وتوسيع مختبر علوم التبريد، حيث تم توسيع مختبر شنغهاي بالصين في وقت سابق من هذا العام، ومختبر ميدلاند بولاية ميشيغان في يونيو، للمساعدة في تطوير وتوسيع نطاق حلول الإدارة الحرارية من الجيل التالي، وتسريع ابتكارات العملاء.
أشارت داو إلى أن أداء المنتج وموثوقية التوريد والقدرات التقنية تعتبر بالغة الأهمية في تطبيقات التنقل والإلكترونيات والرعاية الصحية، وأن الطلب على السيليكونات المتخصصة يواصل النمو بمعدل يتجاوز الناتج المحلي الإجمالي. تهدف هذه الاستثمارات إلى مواءمة الطاقة الإنتاجية مع طلب العملاء من خلال التصنيع المحلي والإقليمي، وبالتالي دعم هذه الاتجاهات.
