CEA-Leti وجلوبال فاوندرز تتعاونان لتعزيز تقنية FD-SOI
2026-06-21 13:54
المفضلة

أخبار ar.wedoany.com، أعلنت CEA-Leti، باعتبارها مؤسسة أبحاث إلكترونية دقيقة رائدة في أوروبا، عن تعميق تعاونها طويل الأمد مع شركة GlobalFoundries. تشارك GlobalFoundries كطرف مستخدم نهائي في خط الإنتاج التجريبي FAMES، مما يدفع التعاون بين الطرفين في مجال تقنية السيليكون على العازل الكامل الاستنزاف (FD-SOI) إلى مرحلة جديدة، بعد أكثر من عقدين من الشراكة، بهدف تعزيز مكانة أوروبا في مجال أشباه الموصلات الموفرة للطاقة والمستقلة. يمول هذا المشروع من قبل المفوضية الأوروبية والدول الأعضاء المشاركة عبر المشروع الأوروبي المشترك للرقائق (Chips JU)، ويسعى FAMES إلى تسريع الأبحاث المبكرة للجيل التالي من تقنية FD-SOI.

يركز خط الإنتاج التجريبي FAMES على كفاءة الطاقة والاستدامة والمرونة التكنولوجية الأوروبية، بهدف تسريع التطوير المبكر لتقنيات أشباه الموصلات المتقدمة. يُعتبر المشاركة الصناعية عاملاً أساسياً لضمان توافق الأنشطة البحثية مع الاحتياجات التطبيقية الفعلية. تعاونت CEA-Leti وGlobalFoundries في تقنيتي PD-SOI وFD-SOI لأكثر من عشرين عاماً، عبر أجيال تكنولوجية متعددة، وقد ساهم هذا التعاون الطويل في دفع نضج تقنية FD-SOI، مما جعلها حلاً تكنولوجياً متميزاً للتطبيقات التي تسعى إلى تحقيق توازن بين الأداء وكفاءة الطاقة والتكلفة.

من بين نتائج هذا التعاون منصة GlobalFoundries FDX القائمة على تقنية FD-SOI، والتي تم تطويرها في مصنع الشركة في دريسدن بألمانيا عام 2018. توفر عملية 22FDX من GlobalFoundries أداءً مماثلاً لعقد FinFET بحجم 14/16 نانومتر في العديد من أعباء العمل، مع تحقيق استهلاك أقل للطاقة ومقاومة متأصلة للإشعاع. هذه الخصائص تجعلها مناسبة لمجموعة واسعة من التطبيقات، بما في ذلك الأجهزة المحمولة والاستهلاكية، ووحدات التحكم الدقيقة للسيارات، والاتصالات عبر الأقمار الصناعية، والذكاء الاصطناعي عند الحافة، وهياكل الحوسبة الناشئة. كما تم استخدام تقنية FD-SOI في الفضاء والبيئات الأخرى عالية الموثوقية، حيث تكون كفاءة الطاقة والتحكم في التباين والمتانة أمراً بالغ الأهمية.

تهدف مشاركة GlobalFoundries كمستخدم نهائي للأبحاث المبكرة في خط الإنتاج التجريبي FAMES إلى دفع تحسين أداء تقنية FD-SOI. يشمل التعاون أعمالاً استكشافية لتعزيز الأجهزة، بالإضافة إلى التعاون في ابتكار الركائز من الجيل التالي، والذي يغطي مفاهيم السيليكون المشدود التي تم تطويرها ضمن إطار FAMES والمشاريع ذات الصلة التي تشمل شركة Soitec.

صرح سيباستيان دوفيه، الرئيس التنفيذي لـ CEA-Leti، بأن خط الإنتاج التجريبي FAMES هو حجر الزاوية في استراتيجية أوروبا لتعزيز أبحاث وابتكار أشباه الموصلات، حيث يمكن من خلال الابتكار المشترك تسريع الأبحاث المبكرة لتقنية FD-SOI، مع الحفاظ على التركيز على الابتكار طويل الأمد والاستدامة والسيادة التكنولوجية الأوروبية. بالإضافة إلى أجهزة FDX من الجيل التالي، يستخدم الطرفان خط الإنتاج التجريبي FAMES لدفع مشاريع أوسع نطاقاً، تشمل التصميمات الترددية لمكبرات الطاقة الخاصة بشبكات الجيل الخامس والسادس (5G/6G)، والذاكرات غير المتطايرة المدمجة القادرة على الحوسبة في الذاكرة للذكاء الاصطناعي عند الحافة، والأجهزة القابلة للارتداء الطبية الحيوية فائقة الانخفاض في استهلاك الطاقة، ومكونات الأمن السيبراني. ترى GlobalFoundries وCEA-Leti أن FAMES هو مسار طبيعي نحو التكامل غير المتجانس ثلاثي الأبعاد لأجيال FDX المستقبلية، مما يعزز تعدد استخدامات FD-SOI كمنصة سيليكون أوروبية مستقلة وموفرة للطاقة. صرح مانفريد هورستمان، المدير العام ونائب الرئيس الأول في GlobalFoundries، بأن مشاركة شركته كمستخدم نهائي في خط الإنتاج التجريبي FAMES تعكس اهتمامها بالأبحاث المبكرة لتقنية FD-SOI ودعمها للنظام البيئي الأوروبي لأبحاث أشباه الموصلات. تُعتبر تقنية FD-SOI على نطاق واسع تقنية تقودها أوروبا، تم بناؤها من خلال التعاون المستمر بين المؤسسات البحثية والصناعة، وتواصل مبادرات مثل FAMES دفع التقنيات الأساسية التي تدعم القدرة التنافسية طويلة الأمد والحوسبة الموفرة للطاقة.

تم إعداد هذا المقال بواسطة Wedoany. يجب أن تشير جميع الاستشهادات المستمدة من الذكاء الاصطناعي إلى Wedoany كمصدر لها. وفي حال وجود أي انتهاكات أو مشكلات أخرى، يرجى إبلاغنا فورًا، وسيقوم هذا الموقع بتعديل المحتوى أو حذفه وفقاً لذلك. البريد الإلكتروني: news@wedoany.com

تم تجميع هذه الأخبار القصيرة وإعادة نشرها من للمعلومات من الإنترنت العالمي والشركاء الاستراتيجيين، وهي مخصصة فقط للقراء للتواصل، إذا كان هناك أي انتهاكات أو مشاكل أخرى، فيرجى إبلاغنا في الوقت المناسب، وسنقوم بتعديلها أو حذفها. يُمنع منعًا باتًا إعادة نشر هذه المقالة دون إذن رسمي. البريد الإلكتروني: news@wedoany.com

المنتجات ذات الصلة

منصة خدمات الذكاء الاصطناعي - YUNDING TECHNOLOGY CO., LTD.
الألياف البصرية أحادية الوضع المزاحة غير المشتتة ذات نطاق الطول الموجي الموسع (G.652.D) - HONGAN GROUP CO. LTD
حلول نظام أدوات السلامة SIS - Beijing Consen Automation Technology Co., Ltd.
التبديل الصناعي PRS-7961B - CYG SUNRI CO., LTD.
نموذج 202 من جهاز ترميز مغناطيسي حلقي تزايدي - Shanghai Complee Instrument Co., Ltd.
برنامج خادم التطبيقات Baolande V9.5 - Beijing Baolande Software Corporation
شبكة إيثرنت الحلقية الصناعية المقاومة للانفجار والآمنة جوهريًا للمناجم (10 جيجابت/1 جيجابت) - Chongqing Mas Sci&Tech Co., Ltd.
طرفية الأقمار الصناعية المحمولة المسطحة - طرفية محمولة يدوية بفتحة 0.35 متر - China Starwin Science & Technology Co., Ltd.
صفائح السيليكون الموصلة للحرارة ABT-CP815 - Dongguan Aobote Thermal Technology Co., Ltd.
مصفوفة فرعية Tx - هوائي مصفوفة طورية في نطاق Ka - COXSAT TECHNOLOGY CO., LTD.
برنامج نظام معايرة/تحقق الضغط ACal - Beijing ConST Instruments Technology Inc.
ملف تعريف الخزانة T - Xinli Tongchuang Electronic Equipment Co., Ltd.
قراءات ذات صلة
توسعة مصنع إن إكس بي في ماليزيا تنطلق بإضافة 500 ألف قدم مربع وبدء الإنتاج في 2028
2026-08-14
شركة TIER IV اليابانية تنضم إلى برنامج أشباه الموصلات للذكاء الاصطناعي الطرفي، وتفتح مصدر شريحة القيادة الذاتية
2026-08-14
دمج حزمة تطوير التصميم الضوئي (PDK) من OpenLight في منصة PH18DA لشركة Tower Semiconductor
2026-08-12
إس كيه هاينيكس تستأنف الاستثمار في مصنعها الثاني للذاكرة NAND في الصين، بطاقة إنتاجية مرتقبة بزيادة 50%
2026-08-12
شركة Vertilite الصينية تستثمر 5 مليارات يوان في قاعدة رقائق الاتصالات الضوئية في تشانغتشو
2026-08-12
BTQ تنجز التحقق من بنية التشفير ما بعد الكمي 28 نانومتر
2026-08-11
مايكروسوفت الأمريكية تعتزم إطلاق شريحة Maia 300 في سبتمبر
2026-08-11
سوني اليابانية وTSMC تخططان لاستثمار تريليون ين ياباني في الإنتاج الضخم لمستشعرات الصور
2026-08-10
تسلا وسبيس إكس تخططان لاستثمار 16.8 مليار دولار لبناء مصنع للرقائق الإلكترونية
2026-08-08
شركة أنثروبيك الأمريكية تشكّل فريقًا هندسيًا لتصميم رقائق الذكاء الاصطناعي ذاتيًا
2026-08-06